В много страни академичната система е изправена пред сериозна криза, свързана с увеличаващата се употреба на изкуствен интелект (AI) за измамни цели. Все повече студенти използват AI инструменти като ChatGPT и Midjourney, за да пишат есета, дисертации и други академични задания, които представят като свое собствено творчество. Но какви черти на личността стоят зад тази тенденция?

Според ново проучване, публикувано в списание BMC Psychology, определени психологически характеристики могат да направят някои студенти значително по-склонни към подобни действия.

Какви личности злоупотребяват с AI?

Изследването е проведено от Джини Сонг от университета Чодан в Южна Корея и Шуян Лиу от университета Бексок. Те анализират поведението на 504 китайски студенти по изкуства и откриват, че високите нива на нарцисизъм, макиавелизъм и психопатия — черти, познати като Тъмната триада, са силно свързани с измамите с изкуствен интелект.

Студентите с тези личностни черти по-често прибягват до AI, за да създават произведения, които представят като свои собствени. Според учените, това е първото изследване, което разглежда тази връзка сред студентите по изкуства – група, която е особено уязвима поради спецификата на тяхната академична и творческа среда.

Защо студентите по изкуства са по-застрашени?

Проучването обхваща студенти по изкуства от шест водещи университета в китайската провинция Съчуан. Те се сблъскват с високи изисквания за оригиналност, силна конкуренция и бързо навлизане на AI в творческите индустрии, което ги поставя под значително напрежение.

Студентите попълват въпросници за своите личностни черти, нива на академична тревожност, склонност към отлагане на задачите, усещане за фрустрация, негативно мислене и навици при използване на изкуствен интелект.

Какво показаха резултатите?

Чрез структурен модел за уравнения, изследователите откриват ясни зависимости:

  • Тъмните личностни черти са пряко свързани с по-честа академична нечестност.

  • Високите нива на тревожност и отлагането на задачи засилват чувството на фрустрация и негативни мисли.

  • Това повишава вероятността студентите да прибягват до AI, за да завършат задълженията си.

  • Материалистичната нагласа също е индикатор за повишена склонност към използване на AI за измами.

Изводът е ясен – личностните черти не само влияят на поведението, но и предопределят как студентът реагира на академичния натиск.

Какви действия могат да предприемат университетите?

Авторите на изследването подчертават, че университетите трябва активно да реагират на тези тревожни тенденции.

„Резултатите подчертават как личностните характеристики са свързани с проблемни академични поведения и психологически затруднения,“ заявяват учените.

Те препоръчват академичните институции да:

  • Предоставят обучения по академична етика;

  • Въведат психологическа подкрепа за уязвими групи;

  • Разработят ранни предупредителни системи, базирани на поведенчески модели, които идентифицират рискови студенти.

Целта е не само предотвратяване на измамите, но и изграждане на среда, която насърчава академична честност и разбиране на етичните принципи.

Ограничения и препоръки за бъдещи изследвания

Въпреки ценните резултати, проучването има своите ограничения:

  • Обхваща само студенти по изкуства в Съчуан;

  • Използва самооценъчни въпросници, които могат да бъдат субективни;

  • Не доказва причинно-следствени връзки, а само корелации.

Затова бъдещите изследвания биха могли:

  • Да включат по-широк кръг от дисциплини;

  • Да проследят студентите дългосрочно;

  • Да използват по-обективни методи за измерване на поведението и личностните черти.

Заключение

С напредъка на технологиите изкуственият интелект ще продължи да заема все по-важна роля в образованието и творческите индустрии. Затова е от изключителна важност академичните институции да разберат психологическите механизми, които водят до злоупотреба с AI, и да създадат стратегии за тяхното преодоляване. Само така можем да запазим академичната честност и ценностите на образованието в една бързо променяща се дигитална епоха.

DOI: 10.1186/s40359-025-02949-w

Източник: Phys.org